纳米技术出现 10年内硬盘容量翻倍

日立宣称研究出了一种制造硬盘磁片的新方法，借助纳米技术，可以使现有的硬盘密度增加一倍。

这项新技术结合了自组装分子和纳米压印技术，这些技术原来都是应用在半导体相关的生产领域，现在他们被用来构建微型“磁岛”模式，每个“岛”仅仅10纳米，大概只有50个原子那么宽。

而最终的结果是可实现每平方英寸12000亿个点，每个点可以存储1比特的信息。粗略地计算，大概是现有的磁盘媒介密度的两倍，日立公司的研究者们还表示他们对结果仅仅做了粗浅的研究，可能还会有更大的发展潜力。

研究员汤姆·阿尔布雷得在一份声明中说：“借助合适的化学和表面处理，我们相信这项成果还可以应用到更小的规模。”

上面提到的自组装分子技术之所以这么叫是因为它们来自于互相排斥的混合高分子段，当把它们涂到到事先准备好的特殊的表面，比如薄膜时，这些段就会排列成完美的一行，就像魔术一样。

一旦如此排列，这些微小的构建模块就可以借助其它的芯片级处理技术来操作，在被纳米压印技术压印到磁片之前，可以制成需要的结构。下图显示，每个纳米级的点大小不超过50个原子，但它们可以存储1比特的信息。(图片来源于日立)

日立关键性的突破在于如何构建它们——这是把原是矩形结构的排列应用到圆形的磁片上用于存储所必需的。日立公司表示为了构建这种结构，它们对磁片表面进行了处理，以便自组装分子技术可以应用其中。

芯片行业一直密切关注着纳米蚀刻技术，认为它潜力巨大，可能为目前的光蚀刻技术带来一场革命，因为随着半导体产品的尺寸越来越小，光蚀刻技术变得越来越复杂，越来越昂贵。

或许在未来某天，人们可以借助纳米蚀刻技术把各种复杂的部件组装成微处理器，许多研究者们相信这项技术会直接应用到磁盘或内存等领域，这些领域更简单，而且可以承受这项不成熟技术带来的不可避免缺点。

目前来看，日立公司已经有所突破，第一款基于纳米蚀刻技术的商业级硬盘估计很快就要到来了。日立公司副总裁Currie Munce则希望这项技术能在这个年代末成为一项经济实惠的技术。

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